


미국 PCT社(https://www.pctebi.com)의 전자빔(EB) 장비는 넓은 폭길이가 필요한 Roll-to-roll 양산 응용에 적합하며, 고객 요청 사양에 맞추어 개별로 설계가 가능합니다. 고유 Shielding Roll Design(차폐 디자인) 특허기술로 인해 비교적으로 매우 장비 사이즈가 컴팩트하게 디자인되었으며, 전원장치 또한 고유기술이 적용되어 있습니다.
식품 포장지 경화, 잉크 경화, 수축 케이블 경화, 살균 및 멸균, 타이어 경화, 코팅액 경화, 접착제 경화 등 다양한 응용에서 기존 기술에 비하여 보다 우수한 성능으로 조사처리 가능합니다. 이 외에도 다양한 분야에서 차세대기술로 주목받으며 양산 적용되고 있습니다.
식품 포장지 경화, 잉크 경화, 수축 케이블 경화, 살균 및 멸균, 타이어 경화, 코팅액 경화, 접착제 경화 등 다양한 응용에서 기존 기술에 비하여 보다 우수한 성능으로 조사처리 가능합니다. 이 외에도 다양한 분야에서 차세대기술로 주목받으며 양산 적용되고 있습니다.
*고객 요청에 따라 사양 및 설계 변동 가능

스위스 COMET社(https://www.ebeamtechnologies.com)의 전자빔(EB) 장비는 자체 개발된 고유 특허기술이 적용된 Shield Lamp를 탑재하고 있습니다. 완벽 차폐된 고진공 램프인 관계로 진공펌프가 별도로 필요 없으며, 면(AREA) 조사 방식으로 Uniformity가 매우 우수한 제품입니다.
식품 포장지 경화, 잉크 경화, 수축 케이블 경화, 타이어 경화, 코팅액 경화, 접착제 경화, 살균 및 멸균 등 다양한 응용에서 기존 기술에 비하여 보다 우수한 성능으로 조사처리 가능합니다. 이 외에도 다양한 분야에서 차세대기술로 주목받으며 개발 활용되고 있습니다.
식품 포장지 경화, 잉크 경화, 수축 케이블 경화, 타이어 경화, 코팅액 경화, 접착제 경화, 살균 및 멸균 등 다양한 응용에서 기존 기술에 비하여 보다 우수한 성능으로 조사처리 가능합니다. 이 외에도 다양한 분야에서 차세대기술로 주목받으며 개발 활용되고 있습니다.

<전자빔 제품 원리>
매우 얇은 윈도우를 토해 전자들이 진공관을 벗어난다.
1. 초진공 상태
2. 고전압 절연체
3. 빛나는 필라멘트에서 전자를 방출
4. 강한 전기장에서 전자의 가속화
– 좁은 폭으로 경량 코팅 및 잉크 경화 응용
– 유연포장 (Flexible Packaging) 응용으로 HP Indigo 20000 프레스와 호환
– OPV (Overprint Varnish) 처리 등 다양한 효과 구현 가능
– 즉각 경화처리 공정
– 유연포장 (Flexible Packaging) 응용으로 HP Indigo 20000 프레스와 호환
– OPV (Overprint Varnish) 처리 등 다양한 효과 구현 가능
– 즉각 경화처리 공정
Technical Specifications | Values |
Accelerating Voltage | 80 to 100 kV |
Maximum Uniform Beam Width | 30 in[760 mm] |
Maximum Production Speed | 600 ft/min[183 m/min] |
Maximum Surface Dose Rate for 100 kV | 3 Mrad @ 600 ft/min[30 kGy @ 183 m/min] |
Cross-web Uniformity | ≤ ±8.0% variation |
Nitrogen Inerting Level | ≤ 200 ppm O2 |
Product Clearance | 0.050 in[1.25 mm] |
Web Support | Patented integrated shield roll |
Dimensions (H x W x D) | 40 x 100 x 59 in[100 x 255 x 149 cm] |
Facility Requirements | Electricity, cooling water, and nitrogen |
Noise Level | < 70.0 dB(A) |
– 넓은 폭으로 광범위한 경화, 라미네이팅, 가교 응용에 적합하도록 설계
– 잉크, 코팅의 지속력 및 유연성 향상
– 냉각 롤 (Chill Roll) 기능
– 잉크, 코팅의 지속력 및 유연성 향상
– 냉각 롤 (Chill Roll) 기능

Technical Specifications | Values |
Accelerating Voltage | 80 to 150 kV |
Uniform Beam Width | 36 to 108 in[910 to 2,740 mm] |
Maximum Production Speed | 1,300 ft/min[400 m/min] |
Maximum Surface Dose Rate[Model and Voltage Dependent] | 3 Mrad @ 1,300 ft/min[30 kGy @ 400 m/min] |
Cross-web Uniformity | ≤ ±8.0% variation |
Nitrogen Inerting Level | ≤ 200 ppm O2 |
Product Clearance | 0.050 in[1.50 mm] |
Web Support | Patented integrated shield roll |
Dimensions (H x W x D)[36 in Beam Width] | 53 x 105 x 83 in[135 x 266 x 210 cm] |
Facility Requirements | Electricity, cooling water, and nitrogen |
Noise Level | < 70.0 dB(A) |
– 최대 300 kV 가속 전압
– 가장 수요가 많은 High-power 응용 장비
– 다층(Multi-layer) 필름 가교, 두꺼운 불투명 코팅 경화, PSA 공정
– 가장 수요가 많은 High-power 응용 장비
– 다층(Multi-layer) 필름 가교, 두꺼운 불투명 코팅 경화, PSA 공정
Technical Specifications | Values |
Accelerating Voltage | 80 to 300 kV |
Uniform Beam Width | 47 to 91 in[1,194 to 2,320 mm] |
Maximum Production Speed | 1,300 ft/min[400 m/min] |
Maximum Surface Dose Rate[Model and Voltage Dependent] | 13 Mrad @ 1,300 ft/min[130 kGy @ 400 m/min] |
Cross-web Uniformity | ≤ ±8.0% variation |
Nitrogen Inerting Level | ≤ 200 ppm O2 |
Product Clearance | 0.125 in[3 mm] |
Web Support | Patented integrated shield roll |
Dimensions (H x W x D)[47 in Beam Width] | 145 x 185 x 170 in[370 x 470 x 430 cm] |
Facility Requirements | Electricity, cooling water, and nitrogen |
Noise Level | < 70.0 dB(A) |
– Sealed-emitter 기술을 통해 전자빔의 장점인 R&D라인, 좁은 폭, 3D 부품 등 다양한 응용에 적합
Technical Specifications | Values |
Accelerating Voltage | 80 to 300 kV |
Maximum Uniform Beam Width | 14.2 in[360 mm] |
Maximum Production Speed[Model and Voltage Dependent] | 328 ft/min[100 m/min] |
Maximum Surface Dose Rate for 80 kV | 3 Mrad @ 328 ft/min[30 kGy @ 100 m/min] |
Cross-web Uniformity | ≤ ±10.0% variation |
Nitrogen Inerting Level | ≤ 200 ppm O2 |
Product Clearance | Various |
Product Support | Patented integrated shield roll, beam absorber, or other |
Potential Dimensions (H x W x D) | 19 x 48 x 26 in[48 x 122 x 66 cm] |
Facility Requirements | Electricity, cooling water, and nitrogen |
Noise Level | < 70.0 dB(A) |
– 기 제품 개발 시험이 완료된 Pilot Line으로 Roll-to-Roll 생산 테스트 가능
– 컨셉 테스트, 생산 개발 테스트를 통해 전자빔 기술의 성능 확인이 가능
– 미국 Iowa주 Davenport에 위치
– 플라스틱 필름 가교, 접착제 경화, 인쇄 물질 상 OPV(Overprint Varnish) 등 다양한 용도에 맞게 Pilot Line 구성 가능
– 컨셉 테스트, 생산 개발 테스트를 통해 전자빔 기술의 성능 확인이 가능
– 미국 Iowa주 Davenport에 위치
– 플라스틱 필름 가교, 접착제 경화, 인쇄 물질 상 OPV(Overprint Varnish) 등 다양한 용도에 맞게 Pilot Line 구성 가능
Technical Specifications | Values |
Accelerating Voltage | 100 to 300 kV |
Maximum Single-pass Beam Penetration | 0.028 in[700 μm] |
Maximum Web Width | 26 in[660 mm] |
Maximum Roll Diameter | 36 in[910 mm] |
Core Size | 3 or 6 in[76.2 or 152.4 mm] |
Maximum Roll Weight | 1 ton[0.9 metric tonnes] |
Web Tension | 5 to 100 lbs[22 to 440 N] |
Line Speed[Application Dependent] | 10 to 500 ft/min[3 to 180 m/min] |
Maximum Single-pass Dose[Speed and Voltage Dependent] | 30 Mrad[300 kGy] |
Maximum Corona Treatment Power | 3.2 kW |
Coat Weight | 0.07 to 0.72 lb/ft2[3 to 30 g/m2] |

· 완벽 차폐된 고진공 ebeam lamp
· 진공 펌프 없음 (램프 내부 고진공 유지)
· 유지보수 필요 없음
· 윈도우를 투과한 전자가 공기 중으로 방출 = 면(AREA) 조사 방식
· 일반 조명 램프와 같이 ON 과 즉시 사용 가능
· 간단한 조작 및 응용에 용이
· Width: 0.25m / 0.38m
· 진공 펌프 없음 (램프 내부 고진공 유지)
· 유지보수 필요 없음
· 윈도우를 투과한 전자가 공기 중으로 방출 = 면(AREA) 조사 방식
· 일반 조명 램프와 같이 ON 과 즉시 사용 가능
· 간단한 조작 및 응용에 용이
· Width: 0.25m / 0.38m
Model | EBE-200/270 EBE-200/400 |
---|---|
Energy range | 80-200 keV |
Max. power | 3.7 kW(…/270 ver.) 4.0 kW(…/400 ver.) |
Beam length @ 10 mm | 255 mm(…/270 ver.) 380 mm(…/400 ver.) |
Surface dose rate at max. voltage (kGy x m/min/kW) | 484(…/270 ver.) 327(…/400 ver.) |
Weight | 12.3 kg(…/270 ver.) 13.2 kg(…/400 ver.) |
구성품:
전원 (High voltage power supply)
케이블 (Cable)
램프 (ebeam lamp)
전원 (High voltage power supply)
케이블 (Cable)
램프 (ebeam lamp)
· 일반 책상 크기의 컴팩트한 사이즈
· 편리하게 다양한 실험 가능
· A4 종이 사이즈까지 샘플 처리 가능
· 산소 또는 질소 분위기에서 샘플 처리 가능
· 실험 조건 메모리 기능 (속도, 전압, 도즈량, 전류 등)
· 다양한 전압 조건 : 80-200, 300 keV
· User-Friendly 설계 : 직관적 설계, 동작 버튼
· 안전 설계 : Emergency button, Warning 기능
· 편리하게 다양한 실험 가능
· A4 종이 사이즈까지 샘플 처리 가능
· 산소 또는 질소 분위기에서 샘플 처리 가능
· 실험 조건 메모리 기능 (속도, 전압, 도즈량, 전류 등)
· 다양한 전압 조건 : 80-200, 300 keV
· User-Friendly 설계 : 직관적 설계, 동작 버튼
· 안전 설계 : Emergency button, Warning 기능
Model | EBLab 200 |
---|---|
Voltage range | 80-200 keV precision >99% |
Max. power ebeam Lamp | 2.25 kW |
Max. beam current (voltage dependent) |
20 mA precision >99% |
Sample size | DIN A4 (216×297 mm) |
Sample transport speed | 3-30 m/min |
Weight | ca. 1200 kg |
Size | 1322, 1027, 1828 mm |
Model | EBLab 300 |
---|---|
Voltage range | 80-300 keV precision >99% |
Max. power ebeam Lamp | 4.5 kW |
Max. beam current (voltage dependent) |
20 mA precision >99% |
Sample size | DIN A4 (216×297 mm) |
Sample transport speed | 3-30 m/min |
Weight | ca. 2500 kg |
Size | 1760, 980, 1750 mm |